2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

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[18a-E318-1~14] 【CS.7】 7.2 電子ビーム応用、7.4 量子ビーム界面構造計測、9.5 新機能材料・新物性のコードシェアセッション

2019年9月18日(水) 09:00 〜 12:45 E318 (E318)

橘田 晃宜(産総研)、川久保 貴史(香川高専)

10:30 〜 10:45

[18a-E318-7] 電子線ホログラムに対するDual-tree複素数ウェーブレット隠れマルコフデノイズにおける初段フィルタの影響評価

御堂 義博1、中前 幸治1 (1.阪大情報科)

キーワード:電子線ホログラフィー、雑音低減

電⼦材料や磁性材料の微⼩な電磁場分布を観察するために電⼦線ホログラフィーが⽤いられている。電⼦線ホログラム(⼲渉縞)から微⼩な位相変化を正しく計測するためには雑⾳低減が必要である。本報では、既提案のDual-tree複素数ウェーブレット変換隠れマルコフツリーモデルを⽤いた雑⾳低減⼿法において、最初のスケールで用いるフィルタを変えた時のデノイズ性能への影響について評価した結果を報告する。