2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.6 超高速・高強度レーザー

[18p-E205-1~17] 3.6 超高速・高強度レーザー

2019年9月18日(水) 13:15 〜 18:00 E205 (E205)

高橋 栄治(理研)

16:15 〜 16:30

[18p-E205-12] 高次高調波によるN2Oの窒素K端における軟X線過渡吸収分光

齋藤 成之1、三戸 宏樹1、石井 順久1、金井 輝人1、Wu Yi2、Chew Andrew2、Han Seunghwoi2、Chang Zenghu2、板谷 治郎1 (1.東大物性研、2.フロリダ中央大)

キーワード:高次高調波発生、軟X線、一酸化二窒素

我々は、波長1600 nmの高強度赤外光源を用いて発生させた軟X線高次高調波により、400 eVに存在する窒素K端においてN2O分子の軟X線過渡吸収分光を行った。得られた過渡吸収スペクトルから、トンネルイオン化に伴うN2O分子およびN2O分子イオンの電子・原子核ダイナミクスを議論することができる。