2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング

[18p-N304-1~15] 3.7 レーザープロセシング

2019年9月18日(水) 13:15 〜 17:30 N304 (N304)

吉川 洋史(埼玉大)、小幡 孝太郎(理研)、安國 良平(奈良先端大)

16:45 〜 17:00

[18p-N304-13] レーザーアブレーションによる有機結晶成長の時空間制御 ~ビームプロファイルおよびパルス時間幅依存性~

池山 潤1、吳 奇勳1,2、杉山 輝樹2,3、中林 誠一郎1、吉川 洋史1 (1.埼大院理工、2.交通大応化、3.奈良先端大物質)

キーワード:有機結晶、レーザーアブレーション、結晶成長

我々は,フェムト秒レーザーアブレーションにより結晶表面を局所的に破壊することで,成長駆動力の大きい結晶構造(らせん転位)を発生させ,任意の結晶面の成長を促進できることを見出した.本研究では,種々のレーザーパラメータが結晶成長に与える影響の解明を目的とし,レーザーのビームプロファイルとパルス時間幅結晶の破壊と成長に与える影響について調べた.