2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

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[18p-PB1-1~84] 10 スピントロニクス・マグネティクス(ポスター)

2019年9月18日(水) 13:30 〜 15:30 PB1 (第二体育館)

13:30 〜 15:30

[18p-PB1-64] 強磁性トンネル接合磁気センサ用FeSiAl薄膜の作製

〇(M1)赤松 昇馬1、大兼 幹彦1、角田 匡清1、安藤 康夫1 (1.東北大工)

キーワード:センダスト、磁気センサー

強磁性トンネル接合(MTJ)磁気センサの高感度化のために、高トンネル磁気抵抗(TMR)比と軟磁気特性とを両立するフリー層材料が求められている。本研究では、DO3規則構造において軟磁気特性を示す (センダスト、以下FeSiAl)に着目した。しかし、MTJに応用可能なnmオーダーのFeSiAl薄膜は過去に作製された例がない。本研究の目的は、MgO基板上にDO3規則構造を有するFeSiAl薄膜を作製し、MTJ磁気センサへの応用可能性を明らかにすることである。