[19a-PA4-1~14] 16.3 シリコン系太陽電池

[19a-PA4-7] ミストCVD法により成膜したGaO_x膜のアニール効果(Ⅱ)

〇松田 紘明¹、森 英喜¹、新船 幸二¹、吉田 晴彦¹ (1.兵庫県立大学)

キーワード：パッシベーション、ミストCVD、太陽電池

ミストCVD法により成膜したGaO_x膜に水素アニール及び窒素アニール処理を施し、電気特性の評価とXPSによる解析を行った。