Atomic Layer Deposition of Yttrium Oxide from Y(iPrCp)3 Precursor and Oxygen with Argon boost

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.3 絶縁膜技術

2019年9月19日(木) 13:45 〜 17:45 E305 (E305)

入沢寿史(産総研)、小林清輝(東海大)

15:00 〜 15:15

〇YuWei Lin¹、Jinhan Song¹、Takuya Hoshii¹、Hitoshi Wakabayashi¹、Kazuo Tsutsui²、Kuniyuki Kakushima¹ (1.Tokyo Tech. School of Eng.、2.Tokyo Tech. IIR)

キーワード：Yttrium oxide, Atomic layer deposition