2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

7 ビーム応用 » 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[20a-E307-1~6] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2019年9月20日(金) 10:00 〜 11:45 E307 (E307)

山本 治朗(日立)、谷口 淳(東理大)

11:30 〜 11:45

[20a-E307-6] ポリマーに転写した原子レベルナノパターンの光・熱による形状制御

〇(B)金子 奈帆1、大賀 友瑛1、大島 淳史1、金子 智2,1、松田 晃史1、吉本 護1 (1.東工大物質理工、2.神奈川県産技総研)

キーワード:原子レベルナノパターン、熱ナノインプリント、エキシマ光

ポリマー材料の大面積、軽量、フレキシビリティといった特徴は従来の薄膜堆積基板にはないデバイス応用をもたらす。薄膜の面内秩序構造形成のためには、面内でのより微細かつ高密度な周期的パターニングが重要となるが、研究例は未だ少ない。従って、本研究ではポリマー上での面内周期パターンの微細化を目的として、ポリマーシート上へのパターン転写と熱・光によるパターン形状制御について検討した。