2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[20p-E310-1~21] 15.4 III-V族窒化物結晶

2019年9月20日(金) 13:15 〜 19:00 E310 (E310)

岡田 成仁(山口大)、本田 善央(名大)、谷川 智之(阪大)

17:00 〜 17:15

[20p-E310-15] その場反り測定によるAlInN/GaN多層膜反射鏡の高精度組成制御

〇(M2)平岩 恵1、村永 亘1、岩山 章1、清原 一樹1、竹内 哲也1、上山 智1、岩谷 素顕1、赤﨑 勇1,2 (1.名城大理工、2.名古屋大・赤﨑記念研究センター)

キーワード:多層膜反射鏡、AlInN、反り

高品質AlInN/GaN DBR形成の1つの手法として、その場反り測定が報告されている。時間に対する反りプロファイルの傾きからAlInN層の格子定数が把握できる。エピ成長全体を通じて均一な構造が形成されていれば、その傾きは一定になるはずである。本研究では、エピ成長が進行すると、その傾きは一定ではなく負の方向、すなわち、圧縮歪が増大する方向へと変化していくこと、そして、その要因がInNモル分率の増加である可能性を見出した。