[20p-N304-1~10] アトミックレイヤープロセスの最新動向

[20p-N304-1] ALDプロセス開発の課題とデータサイエンスへの期待

〇霜垣 幸浩¹ (1.東大院工)

キーワード：薄膜作製、原子層成長

ALDプロセスは，膜厚の制御性・再現性に優れ，段差被覆性にも優れた製膜手法である。このことに期待して，多くの応用展開がなされているが，最適プロセス設計のためには不足する情報も多い。この点に関して，量子化学計算や実験データをうまく援用するデータサイエンスへの期待を述べる。