[20p-N304-1~10] アトミックレイヤープロセスの最新動向

[20p-N304-3] 原子層成膜プロセスの次世代制御手法

〇光成 正^1,2、佐藤 寿樹¹、鈴木 悠介¹、菊地 貴倫¹、加賀谷 宗仁¹、森貞 佳紀¹、米道 仁史³、茂木 弘典³、守屋 剛¹ (1.東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ、2.名古屋大学低温プラズマ科学研究センター、3.東京エレクトロン)

キーワード：原子層堆積