09:00 〜 09:15
〇(D)Yaguang Wang1、Xu Shi1、Tomoya Oshikiri1、Kosei Ueno1、Hiroaki Misawa1,2 (1.RIES-Hokkaido Univ.、2.National Chiao Tung Univ.)
一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.12 ナノ領域光科学・近接場光学
2019年3月9日(土) 09:00 〜 12:15 W621 (W621)
△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし
09:00 〜 09:15
〇(D)Yaguang Wang1、Xu Shi1、Tomoya Oshikiri1、Kosei Ueno1、Hiroaki Misawa1,2 (1.RIES-Hokkaido Univ.、2.National Chiao Tung Univ.)
09:15 〜 09:30
〇(M1)伊勢川 知久1、勝俣 翔平1、岡本 隆之2、久保 若奈1 (1.農工大工、2.理研)
09:30 〜 09:45
〇南本 大穂1、佐藤 大樹1、村越 敬1 (1.北大院理)
09:45 〜 10:00
〇石田 拓也1、立間 徹1 (1.東大生研)
10:00 〜 10:15
〇及川 隼平1、南本 大穂1、村越 敬1 (1.北大院理)
10:15 〜 10:30
〇竹森 達也1、齋地 康太1、佐藤 匠1、大鋸本 達郎1、千足 昇平1、丸山 茂夫1,2、野田 真史3、矢花 一浩3、飯田 健二4、信定 克幸4、八井 崇1 (1.東大院工、2.産総研、3.筑波大学、4.分子研)
10:45 〜 11:00
鎌倉 涼介1、〇村井 俊介1,2、藤田 晃司1、田中 勝久1 (1.京大院 工、2.JSTさきがけ)
11:00 〜 11:15
〇(M1)野口 和希1、村井 俊介1,2、田中 勝久1 (1.京大院工、2.JSTさきがけ)
11:15 〜 11:30
〇(B)大西 梓1、Zu Shuai1、石 旭1、孫 泉1、押切 友也1、上野 貢生1、三澤 弘明1,2 (1.北大電子研、2.台湾国立交通大学)
11:30 〜 11:45
〇(M2)阿川 裕晃1、松谷 晃宏2、長谷部 浩一2、磯部 敏宏1、中島 章1、松下 祥子1 (1.東工大材料、2.東工大技術部マイクロプロセス部門)
11:45 〜 12:00
〇(B)竹島 利彦1、松谷 晃宏2、佐藤 美那2、長谷部 浩一2、磯部 敏宏1、中島 章1、松下 祥子1 (1.東工大材料、2.東工大技術部マイクロプロセス部門)
12:00 〜 12:15
〇石井 智1,2、村井 俊介3、鎌倉 涼介3、阪本 浩之3、呉屋 伸哉3、ダオ タン1、シンデ サティシュ1、名村 今日子3、鈴木 基文3、長尾 忠昭1,4、田中 勝久3 (1.物材機構、2.筑波大院数理物質、3.京大院工、4.北大院理)
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