[10a-M111-1~9] 12.1 作製・構造制御

[10a-M111-7] 静電スプレー堆積法による親撥処理した基板上への低分子/ポリマーブレンドの成膜

〇須貝 拓弥¹、小澤 巧実¹、小幡 俊輔¹、秋山 直輝¹、森 悠記¹、小野島 紀夫¹ (1.山梨大工)

キーワード：分子配向、ESD法

我々は基板に親撥処理を行った基板上にTIPS pentacene/PSブレンド膜を堆積させTIPS pentacene結晶の分子配向の制御を試みた．成膜方法は大面積成膜かつ材料利用効率の良いESD法を用いた．その結果，Alストライプ電極の長辺方向に分子配向がほぼそろった結晶の作製に成功した．