2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

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コードシェアセッション » 【CS.5】6.1 強誘電体薄膜、13.3 絶縁膜技術、13.5 デバイス/配線/集積化技術のコードシェアセッション

[10p-W631-1~12] CS.5 6.1 強誘電体薄膜、13.3 絶縁膜技術、13.5 デバイス/配線/集積化技術のコードシェアセッション

2019年3月10日(日) 13:45 〜 17:00 W631 (W631)

小林 正治(東大)、清水 荘雄(東工大)、藤井 章輔(東芝メモリ)

13:45 〜 14:00

[10p-W631-1] HfO2基強誘電体スパッタ薄膜の成長時の酸素分圧が結晶成長・結晶構造に与える影響

高田 賢志1、佐保 勇樹1、桐谷 乃輔1、吉村 武1、芦田 淳1、藤村 紀文1 (1.阪府大工)

キーワード:HfO2、強誘電体