2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

17 ナノカーボン » 17.3 層状物質

[11p-W521-1~18] 17.3 層状物質

2019年3月11日(月) 13:45 〜 18:30 W521 (W521)

中野 匡規(東大)、川那子 高暢(東工大)

17:45 〜 18:00

[11p-W521-16] ミストCVDにより作製した硫化スズ薄膜の特性評価

〇(D)佐藤 翔太1、坂本 雅仁2、西 美咲2、刘 丽1、ルトンジャン ピモンパン1、鄧 太 江3、川原村 敏幸1,2,3 (1.高知工大院 基盤工、2.知能機械シス工、3.総研)

キーワード:ミストCVD、硫化スズ