2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

21 合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」 » 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[12a-PA3-1~26] 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

2019年3月12日(火) 09:30 〜 11:30 PA3 (屋内運動場)

09:30 〜 11:30

[12a-PA3-3] Epitaxial growth of β-Bi2O3 thin films with mist CVD

〇(D)Zaichun Sun1、Daichi Oka1、Tomoteru Fukumura1,2,3 (1.Dept. Chem., Tohoku Univ.、2.WPI-AIMR, Tohoku Univ.、3.Core Research Cluster, Tohoku Univ.)

キーワード:Bismuth oxide, Mist CVD, Epitaxial thin film