2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.5 表面物理・真空

[12a-W834-1~6] 6.5 表面物理・真空

2019年3月12日(火) 09:00 〜 10:30 W834 (W834)

光原 圭(立命館大)

10:00 〜 10:15

[12a-W834-5] 窒素暴露した半導体フォトカソードの加熱処理に伴う表面機能変化

佐藤 大樹1、西谷 智博2、本田 善央2、天野 浩2 (1.名大院工、2.名大IMaSS)

キーワード:NEA半導体フォトカソード、表面、量子効率