09:45 〜 10:00 [10a-Z10-5] ミニマルCVD装置によるシリコンエピタキシャル製膜における基板回転の効果 〇大谷 真奈1、本宮 淳弘1、高橋 俊範1、室井 光子1、羽深 等1、池田 伸一2,3、石田 夕起2,3、原 史朗2,3 (1.横国大院工、2.ミニマルファブ推進機構、3.産総研)