一般セッション(口頭講演)
21 合同セッションＫ「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」 » 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」
2020年9月9日(水) 09:00 〜 12:00 Z20
佐々木 公平(ノベルクリスタルテクノロジー)、藤井 茉美(奈良先端大)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
09:00 〜 09:15
〇松島 拓海1、渡邉 一樹1、大賀 友瑛1、土嶺 信男2、金子 智3,1、松田 晃史1、吉本 護1 (1.東工大物質理工、2.(株)豊島製作所、3.神奈川県産技総研)
スケジュール
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09:15 〜 09:30
〇河原 克明1、大島 祐一2、沖川 満1、四戸 孝1 (1.FLOSFIA、2.NIMS)
スケジュール
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09:30 〜 09:45
〇堀江 竜斗1、田原 大祐1、西中 浩之1、吉本 昌広1 (1.京工繊大)
スケジュール
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09:45 〜 10:00
〇島添 和樹1、西中 浩之1、新田 悠汰1、伊藤 雄祐1、吉本 昌広1 (1.京都工繊大)
スケジュール
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10:00 〜 10:15
〇(M1)佐藤 陽平1、中田 耕輔1、宮下 周大1、村中 司1、鍋谷 暢一1、松本 俊1 (1.山梨大学工)
スケジュール
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10:30 〜 10:45
〇(D)Doudou Liang1,2、Binjie Chen3、Hai Jun Cho1、Hiromichi Ohta1 (1.RIES-Hokkaido Univ.、2.USTB、3.IST-Hokkaido Univ.)
スケジュール
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10:45 〜 11:00
〇小林 陸1,2、生田目 俊秀2、女屋 崇1,2,3、大井 暁彦2、池田 直樹2、長田 貴弘2、塚越 一仁2、小椋 厚志1,4 (1.明大理工、2.物材機構、3.学振DC、4.明大MREL)
スケジュール
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11:00 〜 11:15
〇(M1)河野 守哉1、森 海1、曲 勇作1,2、古田 守1,2 (1.高知工大、2.高知工大ナノ研)
スケジュール
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11:15 〜 11:30
〇工藤 幹太1、石井 恭平2、小野 瑞生1、金子 健太郎2、山口 智広1、嶋 紘平3、小島 一信3、藤田 静雄2、本田 徹1、秩父 重英3、尾沼 猛儀1 (1.工学院大、2.京大院工、3.東北大多元研)
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11:30 〜 11:45
〇矢野 岳人1、上向井 正裕1、谷川 智之1、片山 竜二1 (1.阪大院工)
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11:45 〜 12:00
〇(M1C)RAJ DEEP1、Yuki Konishi1、Islam Mohammad Shafiqul1、Jie Lin2、Toshiyuki Yoshida1、Yasuhisa Fujita1,2 (1.Shimane Univ.、2.SNCC)
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