[9a-Z10-1~11] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

[9a-Z10-7] 表面形状処理のためのミニマルレーザ水素アニール装置の開発

〇佐藤 和重^1,4、千葉 貴史^1,4、寺田 昌男^1,4、濱田 健吾^1,4、中山 吉之³、金森 義明³、田中 宏幸²、加瀬 雅²、クンプアン ソマワン^1,2、原 史朗^1,2 (1.ミニマルファブ推進機構、2.産総研、3.東北大、4.坂口電熱)

キーワード：ミニマルファブ, レーザ加熱

表面形状処理のため、高速昇降温が可能なレーザ加熱を使ったミニマルレーザ水素アニール装置を開発中で、その試作機が完成し基本特性を確認したので報告する。