13:30 〜 15:30
[12p-PA2-1] Cu錯体をベースとしたレジスト材料の電子線誘起反応
キーワード:電子線リソグラフィ、レジスト、錯体
現行のレジスト材料の性能を格段に向上するため、新しいタイプのレジスト材料を開発した。感度向上を目的として金属原子を均一に内包することが可能な錯体に着目した。本発表では合成した数種類のCu錯体のレジスト適性を評価する。
一般セッション(ポスター講演)
7 ビーム応用 » 7 ビーム応用(ポスター)
2020年3月12日(木) 13:30 〜 15:30 PA2 (第3体育館)
13:30 〜 15:30
キーワード:電子線リソグラフィ、レジスト、錯体