[12p-PA2-1~4] 7 Beam Technology and Nanofabrication

[12p-PA2-2] Influence of polyalcohol in developer contact angle to novolac type positive-tone resist.

〇Syunpei Kajita¹, Yukiko Miyaji¹, Hideo Horibe² (1.Sakamoto Co.,Ltd., 2.Osaka-City Univ.)

Keywords:resist, developer, alcohol

多価アルコールを現像液に添加すると、レジストの溶解性を制御し、パターンの解像度を向上させることが報告されているが、その作用機序の詳細は不明である。我々は、この作用機序が把握できれば、レジストを選択的に溶解する薬液組成の設計が可能になると考え、作用機序の解明に取り組んでいる。本検討では、レジスト露光部および未露光部に対する現像液の接触角を測定し、パターン作成時のレジスト感度との関係性を調査した。