2020年第67回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」 » 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[13p-D419-1~16] 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

2020年3月13日(金) 13:45 〜 18:15 D419 (11-419)

安田 隆(石巻専修大)、池之上 卓己(京大)

18:00 〜 18:15

[13p-D419-16] 最大発振周波数 27 GHzを有するGa2O3 MOSFET

上村 崇史1、中田 義昭1、東脇 正高1 (1.情通機構)

キーワード:酸化ガリウム、高周波FET

Ga2O3は、非常に大きな絶縁破壊電界と比較的高い飽和電子速度を有すると理論的に予測されている。そのため、Ga2O3 FETは高耐圧スイッチング素子のみならず、高周波素子への応用も期待される。本研究では、高周波FETにおいて用いられるサブμmゲートスケーリングで生じる短チャネル効果を抑制するために、浅く、高濃度のSiイオン注入チャネルドーピングを行い、ゲート長/チャネル層厚のアスペクト比を高く保ったGa2O3 MOSFETを作製し、そのDC, RFデバイス特性を評価した。その結果、Ga2O3 FETとして最大発振周波数 (fmax) の最高値を記録することに成功した。