[14p-PB3-1~8] 3.15 シリコンフォトニクス・集積フォトニクス

[14p-PB3-8] バイナリマスクとハーフトーンマスクで作製された高Q値ナノ共振器

〇(B)高橋 友基¹、安田 孝正¹、岡野 誠²、大塚 実²、関 三好²、横山 信幸²、高橋 和¹ (1.阪府大院工、2.産総研)

キーワード：バイナリマスク、ハーフトーンマスク、高Q値ナノ共振器

我々は，CMOSプロセスを用いて平均Q値190万のシリコンナノ共振器の大量作製，超低閾値シリコンラマンレーザを報告してきた．これらのデバイスの性能を上げるには作製精度の改善が重要である．フォトマスクにはバイナリマスクとハーフトーンマスクの大きく2種類がある．両者で作製精度に差異があるのか調べることは大切である．今回，2種類のフォトマスクで作製したシリコンナノ共振器の作製精度について考察したので報告する．