16:00 〜 16:15 [10p-N323-12] 経時的インピーダンス分光解析を用いた逆バイアスストレス印加下の絶縁膜特性劣化過程の解析 〇久山 智弘1,2、占部 継一郎1、江利口 浩二1 (1.京大院工、2.学振特別研究員DC)