一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング
13:30 〜 13:45
〇三輪 泰斗1,2、門口 尚広1,2、上杉 祐貴2、小澤 祐市2、佐藤 俊一2 (1.東北大工、2.東北大多元研)
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13:45 〜 14:00
〇常光 兼人1、渡辺 明2、尾上 弘晃1,3、寺川 光洋1,3 (1.慶大院理工、2.東北大、3.慶大理工)
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14:00 〜 14:15
〇澁谷 達則1、坂上 和之2、小川 博嗣1、佐藤 大輔1、ヂン タンフン3、石野 雅彦3、田中 真人1、鷲尾 方一4、東口 武史5、錦野 将元3、小林 洋平2、黒田 隆之助1 (1.産総研、2.東大、3.量研、4.早稲田大、5.宇都宮大)
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14:15 〜 14:30
〇(M2)規家 涼太1、田中 陽2、Yalikun Yaxiaer1,2、細川 陽一郎1 (1.奈良先端大物質、2.理研)
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14:45 〜 15:00
〇(D)釣 優香1、丸山 美帆子1,2,3、吉川 洋史1、塚本 勝男1,4、高野 和文3,5、安達 宏昭5、宇佐美 茂佳1、今西 正幸1、吉村 政志6、森 勇介1 (1.阪大院工、2.阪大高等共創、3.京府大生命環境、4.東北大院理、5.創晶、6.阪大レーザー研)
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15:00 〜 15:15
〇池田 光希1、石原 淳1、宮島 顕祐1 (1.東理大院)
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15:15 〜 15:30
〇吉田 剛1、大越 昌幸1 (1.防大電気電子)
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15:30 〜 15:45
〇(D)吉崎 れいな1、伊藤 佑介1、吉武 俊哉1、小池 匠1、魏 超然1、柴田 章広2、長澤 郁夫2、長藤 圭介1、杉田 直彦1 (1.東大院工、2.AGC株式会社)
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