2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.8 光物性・発光デバイス

[10p-N303-1~19] 13.8 光物性・発光デバイス

2021年9月10日(金) 13:30 〜 18:30 N303 (口頭)

加藤 有行(長岡技科大)、舘林 潤(阪大)

15:15 〜 15:30

[10p-N303-8] エピタキシャル成長を利用した固体レーザー冷却用高品質Yb:Y-Al-O厚膜の作製

中山 雄太1、薩井 篤1、松尾 祐治1、原田 幸弘1、喜多 隆1 (1.神戸大院工)

キーワード:エピタキシャル成長、レーザー冷却、希土類添加