2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.7 化合物及びパワーデバイス・プロセス技術・評価

[12a-N305-1~10] 13.7 化合物及びパワーデバイス・プロセス技術・評価

2021年9月12日(日) 09:00 〜 11:45 N305 (口頭)

牧野 高紘(量研機構)

11:15 〜 11:30

[12a-N305-9] シリコン空孔量子センサーによるSiCデバイス内電流誘起磁場の測定

山崎 雄一1、増山 雄太1、佐藤 真一郎1、牧野 高紘1、山田 尚人1、佐藤 隆博1、児島 一聡2、土田 秀一3、星乃 紀博3、大島 武1 (1.量研、2.産総研、3.電中研)

キーワード:シリコン空孔、量子センシング、電流誘起磁場

炭化ケイ素(SiC)中のシリコン空孔(VSi)は量子センサーとして機能し、磁場、温度を高精度・高空間分解能に測定することができる。本研究では、pnダイオード内部に流れる電流が誘起する磁場を光検出磁場共鳴法(ODMR)(=量子センシング)で測定した結果、電流誘起磁場に起因するODMR信号を検出した。