The 82nd JSAP Autumn Meeting 2021

Presentation information

Oral presentation

6 Thin Films and Surfaces » 6.4 Thin films and New materials

[12p-N203-1~12] 6.4 Thin films and New materials

Sun. Sep 12, 2021 1:30 PM - 4:45 PM N203 (Oral)

Katsuhisa Tanaka(Kyoto Univ.), Yoshinobu Nakamura(Univ. of Tokyo), Osamu Nakatsuka(Nagoya Univ.)

4:15 PM - 4:30 PM

[12p-N203-11] Color Change Associated with Atmospheric Chemical Vapor Deposition Technique-Al2O3 Films in Annealing

Hidemichi Honda1, Keiji Komatsu1, Hidetoshi Saitoh1 (1.Nagaoka Univ. Tech.)

Keywords:Amorphous Al2O3, Chromaticity Measuring, Atmospheric Chemical Vapor Deposition

大気開放型CVD法を用いて、Al(acac)3を原料に製膜した時、多結晶Al2O3基板上に茶色の平滑なアモルファスAl2O3膜が作製できる。色の定量的な評価には一般に色度計が用いられ、L*u*v*表色系等を用いて色差等が比較される。L*u*v*表色系ではL*は明度、u*v*は白色照明光源の座標を原点として、物体の色度評価が可能となる。大気開放型CVD法により多結晶Al2O3基板上に作製したアモルファスAl2O3膜と、これを大気雰囲気下でアニールした試料について、色度評価を行った。