[13p-N323-1~14] CS.11 8.3 プラズマナノテクノロジー、9.2 ナノ粒子・ナノワイヤ・ナノシート、13.6 ナノ構造・量子現象・ナノ量子デバイス、15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎のコードシェアセッション

[13p-N323-9] 水素プラズマにより形成したナノコーン構造シリコン表面の光反射特性

〇野村 俊光¹、多村 尚起¹、垣内 弘章¹、大参 宏昌¹ (1.阪大院工)

キーワード：高圧水素プラズマ、black Si、ユビキタス元素

我々は、シリコンを中圧水素プラズマに曝露することでblack Siが作製可能である事を発見した。水素が無毒・廉価かつ低環境負荷な元素であること、また、中圧（> 3 kPa）のため真空排気装置が簡便となることから、本手法によりblack Siを低コスト・無害なプロセスで作製できる。本講演では、加工領域の拡大法を検討するとともに、加工後試料の光反射率を評価した結果について報告する。