[22a-P08-1~11] 8 プラズマエレクトロニクス(ポスター)

[22a-P08-11] DLC成膜用低圧C₂H₂プラズマ特性に及ぼす様々な外部パラメータ依存性の数値解析

〇佐々木 瞬¹、石井 晃一¹、小田 昭紀¹ (1.千葉工大工)

キーワード：シミュレーション、プラズマ支援CVD、アセチレン

近年， ダイヤモンドライクカーボン膜の成膜には, 低圧プラズマ支援CVD法が多く用いられている。本手法において, 成膜用ガスにC₂H₂を用いた場合, 成膜速度および膜硬度の改善が報告されているが, この改善理由も含めてC₂H₂プラズマの特性には未解明な部分が多い。そこで本研究では，低圧高周波C₂H₂プラズマのシミュレーションを行い，外部パラメータ(ガス圧力, ガス流量など)がプラズマ特性に及ぼす影響について解析を行った。