[22a-P08-1~11] 8 プラズマエレクトロニクス(ポスター)

[22a-P08-9] スパッタリング形成薄膜の機能性向上のためのシミュレーションによる成膜過程再現

〇(M2)加藤 瑞葵¹、杦本 敏司¹、奥川 将行¹、小泉 雄一郎¹ (1.阪大院工)

キーワード：プラズマ、Arイオンアシスト、Au薄膜

スパッタリング形成薄膜について，膜表面にAr+衝突をさせることによる膜の機能性向上の効果が見出されているが，成膜過程の理解は十分でない．本研究ではAr+アシスト効果による膜の結晶配向性等に着目し，実験とシミュレーションの比較を行うことで，薄膜形成過程の全体を可視化することを目的とした．実験は，両極性低周波パルス電源を用いてスパッタリングとAr+アシストを遂行・制御した．シミュレーションは分子動力学法を用いた．