13:30 〜 13:45
〇畑山 祥吾1、須藤 祐司1 (1.東北大工)
シンポジウム(口頭講演)
シンポジウム » 相変化メモリ材料の進展と将来展望
2021年3月17日(水) 13:30 〜 16:45 Z02 (Z02)
△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし
13:30 〜 13:45
〇畑山 祥吾1、須藤 祐司1 (1.東北大工)
13:45 〜 14:00
〇森 竣祐1、安藤 大輔1、須藤 祐司1 (1.東北大工)
14:00 〜 14:30
〇後藤 民浩1、Min Zhu2 (1.群馬大理工、2.SIMIT-CAS)
14:30 〜 15:00
〇中岡 俊裕1、渡部 達也1、朴 孝晟1、中谷 和希1、依田 功2、正光 義則3、川﨑 繁男3 (1.上智理工、2.東工大、3.宇宙航空研究開発機構)
15:15 〜 15:45
〇嶋川 晃一1 (1.岐阜大工)
15:45 〜 16:15
〇齊藤 雄太1 (1.産総研デバイス技術)
16:15 〜 16:45
〇須藤 祐司1、畑山 祥吾1、森 竣祐1、双 逸1 (1.東北大工)
パスワード認証
早期参加申込者には2月26日にメールでご案内しております。
後期参加申込者にはお支払い完了メールに記載しております。
要旨・抄録、PDFの閲覧には参加者用アカウントでのログインが必要です。参加者ログイン後に閲覧・ダウンロードできます。
» 参加者用ログイン