2021年第68回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.1 Si系基礎物性・表面界面・シミュレーション

[16p-Z25-1~10] 13.1 Si系基礎物性・表面界面・シミュレーション

2021年3月16日(火) 13:30 〜 16:15 Z25 (Z25)

森 伸也(阪大)、蓮沼 隆(筑波大)

13:45 〜 14:00

[16p-Z25-2] バイオテンプレート極限加工により作製されたシリコンナノピラー構造における表面濡れ性の制御

〇(M1)竹内 聡1、大堀 大介1,4、石田 昌久2、曽田 匡洋2、遠藤 和彦1,3、寒川 誠二1,3,4 (1.東北大流体研、2.長瀬産業、3.産総研、4.東北大AIMR)

キーワード:撥水性、Siナノピラー構造、中性粒子ビームエッチング

濡れ性は材料の表面特性を考慮する重要なパラメータの1つであり様々な分野で応用が期待される。我々は独自の技術であるバイオテンプレート極限加工技術と中性粒子ビーム加工技術を用いて数十nmサイズのSiナノピラー構造を作製した。本研究では配置制御されたSiナノピラー構造の間隔を変化させることで表面の濡れ性の変化について検討を行った。また、Si表面における酸化膜の有無による濡れ性の変化についても検討を行った。