2021年第68回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング

[19a-Z07-1~11] 3.7 レーザープロセシング

2021年3月19日(金) 09:00 〜 12:00 Z07 (Z07)

寺川 光洋(慶大)、安國 良平(奈良先端大)

11:45 〜 12:00

[19a-Z07-11] ナノ秒光渦レーザーによるSi表面のレーザーアブレーション

中村 大輔1、川本 実季1、藤本 翼1、東畠 三洋1、池上 浩1、若山 俊隆2、砂原 淳3、東口 武史4 (1.九大シス情、2.埼玉医科大、3.パデュー大、4.宇都宮大)

キーワード:光渦、マイクロ結晶球

光渦の偏光を実測評価した上で,Siウェハ表面に照射した後の照射痕を調査した.さらに,円環状強度分布をもつナノ秒パルスを照射した際のレーザー生成プラズマのダイナミクスを解析するため2次元輻射流体シミュレーションを行った.