17:15 〜 17:30 [21p-A205-16] シリコンフォトニクス用AlN膜の低温反応性スパッタリング 〇(M2)福島 孝晃1、Piedra Lorenzana Jose A.1、飛沢 健1、石川 靖彦1 (1.豊橋技科大)