17:15 〜 17:30 △ [20p-C401-14] Si酸化膜中へのダブルSi+/Ge+ホットイオン注入によるSiGe量子ドットの形成 〇村川 洸紀1、青木 孝1、鮫島 俊之2、水野 智久1 (1.神奈川大理、2.東京農工大工)