2022年第83回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[20a-C200-1~11] 15.4 III-V族窒化物結晶

2022年9月20日(火) 09:00 〜 12:00 C200 (C200)

谷川 智之(阪大)、大音 隆男(山形大)

11:00 〜 11:15

[20a-C200-8] 【注目講演】HVPE法によるScAlMgO4基板上の高品質GaN基板作成(Ⅲ) MBEによりGaNを直接成長したテンプレート

只友 一行1,2、井本 良1、岡田 成仁2、星生 伸一3、出浦 桃子4、藤井 高志4、荒木 努4、石地 耕太朗5、白石 裕児6、〇福田 承生6 (1.CNV技研、2.山口大院創成、3.オータスジャパン、4.立命館大、5.九州シンクロ、6.福田結晶研)

キーワード:ScAlMgO4、MBE、HVPE

低温バッファ層フリーでMBE法にてSAM基板上に直接成長したGaNテンプレートを使い、SAM基板上のGaN直接成長からSAM基板の再利用までのプロセスの検討を行った。