2022年第83回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[20p-B204-1~13] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2022年9月20日(火) 13:30 〜 17:00 B204 (B204)

神吉 輝夫(阪大)

16:00 〜 16:15

[20p-B204-10] MBEと固相エピタキシーを用いたPr2Ir2O7薄膜の作製および物性評価

〇(M1)大石 舜士1、横倉 聖也2、島田 敏宏2、長浜 太郎2 (1.北大院総化、2.北大院工)

キーワード:パイロクロア酸化物、磁気抵抗効果

Pr2Ir2O7(PIO)のバルク試料を作製する例は多くあるが、高品質の薄膜の作製は困難であった。薄膜の作製を困難にしているのは、高温でIrが揮発してしまうことにある。そこで、Irの揮発を防ぐためにパルスレーザー蒸着法(PLD)を用いてアモルファスの薄膜を作製し、その後大気圧アニールをし、目的の薄膜を得る先行研究がいくつか報告されている。本研究では反応性MBEと固相エピタキシーを用いて、PIOを製膜し、その物性を評価することを目的とした。