[20p-B204-1~13] 6.3 Oxide electronics

△ [20p-B204-11] Fabrication of single oriented VO₂ thin films via topotactic oxidation

〇Hisato Nishii¹, Yuya Matamura¹, Takumi Ikenoue¹, Masao Miyake¹, Tetsuji Hirato¹ (1.Kyoto Univ.)

Keywords:VO2, topotactic oxidation

V₂O₃からVO₂への酸化は、酸化前後の結晶が一定の方位関係を保ったまま起こり得る(トポタクティック酸化が起こり得る)ため、V₂O₃エピタキシャル成長膜を酸化させることで、高配向のVO₂膜を作製することが可能である。本研究では、A面サファイア基板上にエピタキシャル成長したV₂O₃膜をトポタクティック酸化させることで単一配向のVO₂薄膜の作製を試みた。