[20p-C106-1~13] 12.1 作製・構造制御

[20p-C106-2] 低速蒸着法によるジナフトチエノチオフェン（DNTT）薄膜の成長過程

〇廣芝 伸哉^1,2、河野 裕太¹、塩見 天利¹、オンコ リチャード^1,2、松原 亮介³、久保野 敦史³、小池 一歩^1,2 (1.大阪工大・工、2.大阪工大・ナノ材研、3.静岡大・院工)

キーワード：ジナフトチエノチオフェン（DNTT）、薄膜成長、斜入射 X 線回折（GIXD）