2022年第83回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

[21a-A105-1~9] 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

2022年9月21日(水) 09:00 〜 11:30 A105 (A105)

赤羽 浩一(NICT)、西永 慈郎(産総研)

09:30 〜 09:45

[21a-A105-3] InAs基板上InAsSb/InAsP量子井戸の歪補償構造と発光特性の調査

本部 好記1、中川 翔太1、岩切 優人1、前田 幸治1、荒井 昌和1 (1.宮崎大工)

キーワード:MOVPE、InAsSb、歪補償

本研究では有機金属気相成長法(MOVPE)を用いて、InAs基板上にInAsSb/InAsPの10層の歪補償量子井戸を成長した。室温で明瞭なフォトルミネッセンス発光が得られた。InAsP歪補償層の組成、膜厚による違いやペア数による違いなど詳細な結果についても報告する