分子状吸着O<sub>2</sub>によるSiO<sub>2</sub>/Si(001)界面酸化反応過程の分岐

講演情報

一般セッション(口頭講演)

CS コードシェアセッション » 【CS.8】 6.5 表面物理・真空、7.6 原子・分子線およびビーム関連新技術のコードシェア

2022年9月22日(木) 10:00 〜 11:30 A404 (A404)

永村直佳(物材機構)

11:00 〜 11:15

〇(P)津田泰孝¹、吉越章隆¹、小川修一^2,3、坂本徹哉¹、髙桑雄二^1,4 (1.原子力機構MSR、2.東北大SRIS、3.東北大IMRAM、4.東北大μSIC)

キーワード：半導体、酸化、シリコン