[22a-C301-1~11] 3.6 レーザープロセシング（旧3.7）

[22a-C301-2] 繰り返し照射によるレーザー誘起グラファイト合成条件の改善

〇藤原 英樹¹、大黒谷 清吾¹、林 恭平²、海住 英生^2,3、平井 健二⁴、雲林院 宏⁴ (1.北海学園大工、2.慶大理工、3.慶大スピンセンター、4.北大電子研)

キーワード：グラファイト、レーザー加熱、NiFe

本発表では、エタノール中のNiFe薄膜コートガラス基板を集光レーザーで加熱することで基板上に高品質のグラファイト構造を選択的に形成するため、繰り返しレーザー照射条件について探索を行った。