2022年第83回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.2 カーボン系薄膜

[22p-A202-1~22] 6.2 カーボン系薄膜

2022年9月22日(木) 13:00 〜 19:00 A202 (A202)

青野 祐美(鹿児島大)、山田 英明(産総研)、大曲 新矢(産総研)

14:15 〜 14:30

[22p-A202-6] Ni箔上に背面から拡散成長させたh-BNのPEEM観察

遊佐 龍之介1、青山 大晃1、Li Boxuan1、小川 修一1,2、〇虻川 匡司1,2 (1.東北大多元研、2.東北大国際放射光セ)

キーワード:窒化ホウ素、ニッケル箔、光電子顕微鏡

固体拡散法はh-BNの成長に有望なプロセスの一つである。本研究では、Ni箔の裏面に水で溶いたh-BN粉末を塗布した試料を真空中で加熱することで、h-BNが裏面から表面に拡散し、表面で成長する過程をPEEMで観察した。その結果、表面が(111)方位を向いたグレインやドメインのみにh-BNが成長していることが分かった。