一般セッション(口頭講演)

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[25p-D215-1~13] 3.5 レーザー装置・材料

2022年3月25日(金) 13:30 〜 17:00 D215 (D215)

佐藤篤(東北工大)、鈴木将之(同志社大)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
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13:30 〜 13:45

[25p-D215-1] 25 GHz繰り返しフェムト秒光パルスを用いた2/3オクターブ帯域光発生

〇吉田光貴^1,2、石澤淳¹、高磊³、徐学俊¹、吉川優剛^1,2、土澤泰⁴、相原卓磨⁴、西川正²、コングァンウェイ³、日達研一¹、山本宗継³、山田浩治³、小栗克弥¹ (1.NTT物性研、2.東京電機大、3.産総研、4.NTT先デ研)

13:45 〜 14:00

[25p-D215-2] スーパーコンティニュウム光の増幅による光パルスの高ピークパワー化

〇(M1)Cui Yuwen¹、佐藤和夫²、山田博仁^1,2、横山弘之^1,2 (1.東北大院工、2.東北大NICHe)

14:00 〜 14:15

▲ [25p-D215-3] Giant pulse Nd:YVO₄ microchip MOPA for two-photon excitation microscopy

〇(P)Hwan Hong Lim¹、Arvydas Kausas¹、Takunori Taira^1,2 (1.IMS、2.RIKEN)

14:15 〜 14:30

▲ [25p-D215-4] >50 MW peak power microchip laser with unstable resonator

〇(P)Hwan Hong Lim¹、Takunori Taira^1,2 (1.IMS、2.RIKEN)

14:30 〜 14:45

▲ [25p-D215-5] Development of a 2J-Subnanosecond MOPA system

〇Vincent Yahia^1,2、Takunori Taira^2,1 (1.Inst. of Mol. Sci.、2.RIKEN SPring8)

14:45 〜 15:00

[25p-D215-6] 低温伝導冷却アクティブミラー増幅器の新規構造

〇黒岩尭彦^1,2、北島将太朗³、時田茂樹^1,2、金井恒人¹、荻野純平¹、河仲準二^1,2 (1.阪大レーザー研、2.阪大院工、3.名大院工)

15:00 〜 15:15

△ [25p-D215-7] 自己誘導ラマンNd:GdVO₄光渦レーザー

〇(B)菅原春菜¹、Ma Yuanyuan¹、Lee Andrew J.^2,3、Pask Helen M.²、宮本克彦^1,4、尾松孝茂^1,4 (1.千葉大融合理工、2.マッコーリー大学、3.SCIWRITE、4.千葉大分子キラリティー)

15:30 〜 15:45

▲ [25p-D215-8] Impact of initial conditions on the self-starting property of an all-PM NPR mode-locked fiber laser

〇Guanyu Ye¹、Lei Jin¹、Shinji Yamashita¹、Sze Y Set¹ (1.Tokyo Univ.)

15:45 〜 16:00

[25p-D215-9] シングルアームYbファイバMamyshev発振器における出力の最適化

〇(M1C)二俣善紀¹、鹿嶋凌駆¹、戸田裕之¹、鈴木将之¹ (1.同志社大学)

16:00 〜 16:15

△ [25p-D215-10] 赤外フッ化物ファイバセンサにおけるエバネッセント波の染み出し長と研磨深さの最適化

〇(M1)森朗¹、杉本尚哉¹、上原日和²、安原亮²、西島喜明³、時田茂樹⁴、合谷賢治¹ (1.秋田県大、2.核融合研、3.横国大、4.阪大レーザー研)

16:15 〜 16:30

[25p-D215-11] フッ化物光ファイバーデバイスの需要拡大のための耐候性・親水性ナノ薄膜の形成

〇上原日和¹、松尾保孝²、合谷賢治³、西島喜明⁴、安原亮¹、村上政直⁵、小西大介⁵ (1.核融合研、2.北大電子研、3.秋田県大、4.横国大、5.三星ダイヤモンド工業(株))

16:30 〜 16:45

[25p-D215-12] 100 Kから493 KにおけるY₃Al₅O₁₂結晶の屈折率温度係数

〇佐藤庸一^1,2、平等拓範^1,2 (1.理研、2.分子研)

16:45 〜 17:00

[25p-D215-13] 放電プラズマ焼結法による高濃度添加Er：Y₂O₃透光性セラミックス

〇(M1)上野大悟¹、今井麻由¹、時田茂樹²、古瀬裕章¹ (1.北見工大、2.阪大レーザー研)

セッション情報

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▲ [25p-D215-3] Giant pulse Nd:YVO₄ microchip MOPA for two-photon excitation microscopy

▲ [25p-D215-4] >50 MW peak power microchip laser with unstable resonator

▲ [25p-D215-5] Development of a 2J-Subnanosecond MOPA system

[25p-D215-6] 低温伝導冷却アクティブミラー増幅器の新規構造

△ [25p-D215-7] 自己誘導ラマンNd:GdVO₄光渦レーザー

▲ [25p-D215-8] Impact of initial conditions on the self-starting property of an all-PM NPR mode-locked fiber laser

[25p-D215-9] シングルアームYbファイバMamyshev発振器における出力の最適化

△ [25p-D215-10] 赤外フッ化物ファイバセンサにおけるエバネッセント波の染み出し長と研磨深さの最適化

[25p-D215-11] フッ化物光ファイバーデバイスの需要拡大のための耐候性・親水性ナノ薄膜の形成

[25p-D215-12] 100 Kから493 KにおけるY₃Al₅O₁₂結晶の屈折率温度係数

[25p-D215-13] 放電プラズマ焼結法による高濃度添加Er：Y₂O₃透光性セラミックス

認証

セッション情報

[25p-D215-1~13] 3.5 レーザー装置・材料

[25p-D215-1] 25 GHz繰り返しフェムト秒光パルスを用いた2/3オクターブ帯域光発生

[25p-D215-2] スーパーコンティニュウム光の増幅による光パルスの高ピークパワー化

▲ [25p-D215-3] Giant pulse Nd:YVO4 microchip MOPA for two-photon excitation microscopy

▲ [25p-D215-4] >50 MW peak power microchip laser with unstable resonator

▲ [25p-D215-5] Development of a 2J-Subnanosecond MOPA system

[25p-D215-6] 低温伝導冷却アクティブミラー増幅器の新規構造

△ [25p-D215-7] 自己誘導ラマンNd:GdVO4光渦レーザー

▲ [25p-D215-8] Impact of initial conditions on the self-starting property of an all-PM NPR mode-locked fiber laser

[25p-D215-9] シングルアームYbファイバMamyshev発振器における出力の最適化

△ [25p-D215-10] 赤外フッ化物ファイバセンサにおけるエバネッセント波の染み出し長と研磨深さの最適化

[25p-D215-11] フッ化物光ファイバーデバイスの需要拡大のための耐候性・親水性ナノ薄膜の形成

[25p-D215-12] 100 Kから493 KにおけるY3Al5O12結晶の屈折率温度係数

[25p-D215-13] 放電プラズマ焼結法による高濃度添加Er：Y2O3透光性セラミックス

認証

▲ [25p-D215-3] Giant pulse Nd:YVO₄ microchip MOPA for two-photon excitation microscopy

△ [25p-D215-7] 自己誘導ラマンNd:GdVO₄光渦レーザー

[25p-D215-12] 100 Kから493 KにおけるY₃Al₅O₁₂結晶の屈折率温度係数

[25p-D215-13] 放電プラズマ焼結法による高濃度添加Er：Y₂O₃透光性セラミックス