[24p-E105-1~13] CS.5 6.1 強誘電体薄膜、13.3 絶縁膜技術、13.5 デバイス／配線／集積化技術のコードシェアセッション

[24p-E105-6] スパッタリング法による強誘電性ZrO₂極薄膜の形成

永野 丞太郎¹、〇柴山 茂久¹、坂下 満男¹、中塚 理^1,2 (1.名大院工、2.名大未来研)

キーワード：ZrO2、強誘電性、スパッタリング