[24p-E204-1~10] 6.2 カーボン系薄膜

[24p-E204-8] C₆H₆/N₂混合気体のマイクロ波プラズマCVDを用いたa-CNx:H薄膜の形成

〇(B)青山 裕樹¹、高井 翼¹、伊藤 治彦¹ (1.長岡技科大)

キーワード：カーボン系薄膜

C₆H₆とN₂を原料としたマイクロ波プラズマCVDを用いてa-CN_x：H薄膜を生成して高窒素含有率を達成することを目的とし、C₆H₆、N₂のマイクロ波プラズマ生成物を基板上に堆積させて薄膜を生成してそれを構造解析することによって窒素含有率と膜の結合状態の分析および、N₂ガスの分圧を変化させてどの分圧条件で高窒素含有a-CN_x：H薄膜が生成するか検討した。