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△ [25p-F307-14] 複合成膜手法により成膜された低屈折率SiO<sub>2</sub>光学薄膜の親水性評価[3]
キーワード：光学薄膜、親水性
本研究室ではDCパルススパッタリングとEB蒸着を同一真空容器内で同時に稼働させ，連続的に成膜を行う複合成膜手法を開発し, SiO2光学薄膜の低屈折率化に成功している. さらに，先行研究により複合成膜手法により成膜された低屈折率SiO2薄膜は, 高い親水性を示すことが分かっている. 本研究では，複合成膜手法により成膜された低屈折率SiO2-TiO2 光学薄膜における親水性の評価を目的とした.