一般セッション(口頭講演)
6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料
2022年3月25日(金) 13:30 〜 18:00 F307 (F307)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:30 〜 13:45
〇(DC)山口 実奈1、石井 暁大1、及川 格1、山崎 雄亮2、伊村 正明2、高村 仁1 (1.東北大院工、2.日本電気硝子)
スケジュール
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13:45 〜 14:00
〇(D)Seoungmin Chon1、Ryo Nakayama1、Shunta Iwamoto1、Ryota Shimizu1、Taro Hitosugi1 (1.Tokyo Tech)
スケジュール
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14:00 〜 14:15
〇後藤 祐己1、久富 翔平1、大賀 友瑛1、金子 智2,1、吉本 護1、松田 晃史1 (1.東工大物質理工、2.神奈川県産技総研)
スケジュール
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14:15 〜 14:30
〇(D)Kaidong Wang1、Kazunori Nishio1、Koji Horiba2、Miho Kitamura2、Kurei Edamura1、Daisuke Imazeki1、Ryo Nakayama1、Ryota Shimizu1、Hiroshi Kumigashira2,3、Taro Hitosugi1 (1.Tokyo Tech、2.PF-KEK、3.Tohoku Uni.)
スケジュール
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14:30 〜 14:45
〇深津 圭佑1、清水 亮太1、Xin Dai1、小林 成1、西尾 和記1、一杉 太郎1 (1.東工大物質理工)
スケジュール
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14:45 〜 15:00
〇藤澤 唯太1、Pardo-Almanza Markel1、山神 光平1、Hsu C.H.2、Chuang F.C.2、岡田 佳憲1 (1.沖縄科技大、2.National Sun Yat-sen Univ.)
スケジュール
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15:15 〜 15:30
〇(B)福士 英里香1、風間 敦夫1、宗房 幸太1、大口 裕之1 (1.芝浦工大工)
スケジュール
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15:30 〜 15:45
〇(B)宗房 幸太1、風間 敦夫1、福士 英里香1、大口 裕之1 (1.芝浦工大工)
スケジュール
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15:45 〜 16:00
〇(B)岩崎 慧1、磯 啓一朗1、風間 敦夫1、大口 裕之1 (1.芝浦工大工)
スケジュール
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16:00 〜 16:15
〇(M1)磯 啓一朗1、岩崎 慧1、風間 敦夫1、大口 裕之1 (1.芝浦工大)
スケジュール
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16:15 〜 16:30
〇(B)戸澤 拓海1、風間 敦夫1、丸山 伸伍2、松本 祐司2、大口 裕之1 (1.芝浦工大工、2.東北大院工)
スケジュール
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16:45 〜 17:00
〇(M2)曹 子陽1、林 遼一郎1、相馬 拓人1、大友 明1,2 (1.東工大物質理工、2.元素戦略)
スケジュール
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17:00 〜 17:15
〇(D)PhuocToan Tran1,2、Duc Thien Ngo1,2、Tadaaki Nagao1,2 (1.NIMS、2.Hokkaido University)
スケジュール
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17:15 〜 17:30
〇(M1)伊藤 睦記1、松平 学幸2、室谷 裕志1 (1.東海大院工、2.(株)シンクロン)
スケジュール
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17:30 〜 17:45
〇(M1)加藤 寛康1、松平 学幸2、室谷 裕志1 (1.東海大院工、2.（株）シンクロン)
スケジュール
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17:45 〜 18:00
〇(M2)鈴木 春菜1、室谷 裕志1 (1.東海大学院工)
スケジュール
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