[26a-P03-1~15] 8 プラズマエレクトロニクス(ポスター)

[26a-P03-6] 粉体ターゲットプロセスによるFe, Ni, Ti混合傾斜機能性膜の作製

〇川崎 仁晴¹、大島 多美子¹、柳生 義人¹、猪原 武士¹、日比野 祐介¹、佐竹 卓彦^1,2、青木 振一² (1.佐世保高専、2.崇城大)

キーワード：傾斜機能性薄膜、粉体ターゲット、スパッタリング

水素脆化効果が高いTiも含めた3種類の粉体ターゲットをもちいて、基板と薄膜の界面ではより密着性がよく、高圧水素に密着する薄膜側では水素脆化防止効果が高いような傾斜機能性薄膜の作製を試みた。結果から、ターゲット粉体中のNiO/SUSおよびTiO₂/SUSの組成比を制御することで、薄膜中のNi/SUS、Ti/SUS組成比は制御できることが示唆された。